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显微、测量 、微细加工技术与设备 Microscope Microfabrication Equipment 传统光学光刻的极限及下一代光刻技术 中国科学院光电技术研究所 成都610209 中国科学院
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下一代光刻技术面临难题
下一代光刻技术面临难题［趋势］
沈建苗　　约2925字
　　曾经看来大有希望的远紫外（EUV）光刻技术面临着重重困难，193纳米沉浸式技术似乎成为了必然的选择，但成本高昂，而且很难延伸到16纳米节点以下。半导体光刻工艺正面临着技术和成本...
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向豆丁求助：有没有下一代光刻技术?

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