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半导体
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(集成电路工艺)9_opt3
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第九章光刻第九章光刻光刻胶显影和先进的光刻技术微固学院 言本章主要内容:本章主要内容: 光刻胶显影技术 先进的光刻技术本章知识要点: 掌握光刻胶的显影方法; 掌握光刻胶曝光后烘焙意义 掌握光刻胶曝光后
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及趋势
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41导体设备厂商是机遇,更是挑战。从技术上来讲,半导体专用设备的技术门槛越来越高,在高阶制程设备需求方面,半导体制程发展快速,线宽也不断朝向物理、化学、光学的极限前进。2006年65nm集成电路成套
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半导体
设备及基本
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-韩郑生》第五章 真空等离子体与刻蚀
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