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半导体制造技术-韩郑生》半导体制造技术题库(2014版).pdf
1.分别简述RVD 和GILD 的原理,它们的优缺点及应用方向。 2. 集成电路制造中有哪几种常见的扩散工艺?各有什么优缺点? 3. 杂质原子的扩散方式有哪几种?它们各自发生的条件是什么? 4. 从原
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半导体工艺与制造技术习题答案(第四章-离子注入).pdf
第四章离子注入与快速热处理 1.下图为一个典型的离子注入系统。 (1)给出1-6 数字标识部分的名称,简述其作用。 (2)阐述部件2 的工作原理。 答:(1)1:离子源,用于产生注入用的离子; 2:分
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【强化】2024年 苏州大学080900电子科学与技术《863半导体物理基础与数字逻辑之数字电子技术基础》考研强化模拟5套卷.pdf
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