砷化镓异质介面双极性电晶体元件隔离之离子植入分析研...
本文档由 皮卡丘 分享于2009-08-23 02:21
鉴於此,本研究将元件隔离的制程 的水溶液蚀刻GaAs 磊晶(EPI)成为一平台(Mesa),来当作元件间的隔 离(Isolation),其所得到的图案如图三所示.湿蚀刻的优点在於制程期间快速,成 本较低,可以用整批式(Batch type)来制作,但是缺点是...
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