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德国centrotherm PECVD中文操作说明.pdf
PECVDE2000 HT 320-4 操作规程 用于水平炉设备 版本1.0 E2000 HT 320-4 08.06.13 China_PECVD_OperatingInstruction_prel
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PECVD_射频电源资料.pdf
BIG100…BIG150 紧凑型等离子体中频电源 操作说明 注意 注意 注意 注意! 这个操作手册用来指导BIG 100…BIG150 紧凑型等离子体中频电源的安全操作。请遵照本操作手册操作本产品。
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PECVD真空镀膜设备生产制造项目可行性研究报告.pdf
PECVD真空镀膜设备生产制造项目可行性研究报告
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德国Centrotherm PECVD设备E2000中文说明书.pdf
TechnicalDescription System Description 17.6.2009 PECVDE2000 HT410-4 目录 0.1基本情况 0.1.1Centrotherm PEC
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centrotherm PECVD CMI 中文版操作说明书.pdf
CMI中央机器界面 软件说明书 版本 1.01.01 6_95003.10 23.04.102 95003_SM_CMI_sun_V10101_zhs www.eiit
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PECVD原理--等离子体增强化学气相沉积技术基础.pdf
10等离子体增强化学气相沉积技术基础 1.1 等离子体概论 1.1.1 等离子体的基本概念和性质 近代科学研究的结果表明，物质除了具有固态、液态和气态的这三种早为人们熟悉的形态之外，在一定的条件下，还
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PECVD和ICP刻蚀技术及应用.pdf
分类号密级 UDC编号 中国科学院研究生院 博士学位论文 PECVD 和ICP 刻蚀技术及应用 指导教师杨富华 研究员 中国科学院半导体研究所 申请学位级别 工学博士 学科专业名称 微电子学与固体电子
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生产型管式PECVD设备.pdf
/,+0#.)123(#*3.)#,$(4（总第!"# 半导体制造设备太阳能是一种清洁、可再生能源，而太阳能电池因为实现了直接将太阳能转化为电能而受到世界各国的重视。近年来世界上太阳能电池总产能以年增
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大面积全自动SiN,x薄膜PECVD沉积系统的设计与实现.pdf
摘要摘要ＰＥｃＶＤ薄膜沉积系统在半导体薄膜沉积过程中得到了非常广泛的运用，同时也是制造非晶硅薄膜太阳电池的主要设备。ＰＥＣ、，Ｄ沉积的氮化硅薄膜，沉积在晶体硅太阳电池的表面，对太阳光有良好的减反射作用
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管式PECVD操作指导书.doc
文件名：管式PECVD 操作指导书 文件编号：WI-EM02-72 版本：A/0 生效日期： 页码： 修改记录版本 修改内容摘要 编制人 审核人 批准人 新发布规范生产过程出现异常时的操作程序；细化操
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