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高度(100)取向PLTPZT 多层铁电薄膜的制备与性能研究.pdf
利用射频磁控溅射技术,以PbOx 为过渡层,在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上,采用原位溅射技术制备了高度(100) 取向的[(Pb0.90La0.10)Ti0.975O3/Pb(Zr0.20Ti0.80)O3]n (n=1,2){简记为[PLT/PZT]n}多层铁电薄膜,研究了层数对多层铁电薄膜介电性能和铁电性能的影响。研究得出,(100) 取向的PbOx 过渡层导致了[PLT/PZT]n 多层铁电薄膜的(100)择优取向;高度(100)择优取向的[PLT/PZT]2 薄膜具有更大的剩余极化(2Pr=31.45μC/cm)和更好的“蝴蝶”状C-V 曲线。这些研究结果表明,所制备的(100)取向的[PLT/PZT]2 多层铁电薄膜具有优良的铁电性能。
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层铁电薄膜的制备及其电性能研究.pdf
凝聚态物理硕博毕业论文 - 多层铁电薄膜的制备及其电性能研究.
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钛酸钡/钛酸锶多层铁电薄膜微观结构研究
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铋层铁电陶瓷薄膜的三阶非线性光学特性研究

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