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Michael quirk_
半导体制造技术
-第十章_氧化
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Michael quirk_半导体制造技术-第十章_氧化
yuxingxiang1991
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半导体制造技术
_2/2
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对于半导体制造技术从晶圆准备、次微米制程及封装测试方面皆做完整详尽的介绍。最深入浅出、浅显易懂的字词揭示出原文书之精湛内容。 不论是在学研究生或是实际在线工程师而言,皆是一本优良的技术课程教材。
第01章 半导体工业简介
第02章 半导体材料特性
第03章 组件技术
第04章 硅与晶圆准备
第05章 半导体制造之化学特性
第06章 半导体制造厂之污染控制
第07章 量测与缺陷
第08章 制程反应室之气体控制
第09章 IC制造概述
第10章 氧化
第11章 沈积
第12章 金属化
第13章 微影:气相涂底至软烤
第14章 微影:对准与曝光
第15章 微影:光阻显影与先进雕像
第16章 蚀刻
第17章 离子植入
第18章 化学机械平坦化
第19章 晶圆测试
第20章 装配与封装
附录A 化学品及其安全性
附录B 无尘室中的污染控制
附录C 单位
附录D 以氧化物厚度为函数的颜色
附录E 光阻化学品概论
附录F 蚀刻化学品[/align]
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半导体制造技术
第20章装配与封装
.ppt
半导体制造技术 第20章 装配与封装. DE LIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY. www. dlit.edu.tw. ©2005 DLIT, All rights reserved. 授课老师:王宣胜 ...
( ⅱ)陌玍
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与
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半导体制造技术
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半导体制造技术
-第三章_器件
技术
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