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- 二元光学元件的激光直写及光刻技术的研究.pdf
- 浙江大学硕士学位论文摘要本文介绍了二元光学的发展状况以及制作二元光学器件的主要方法，特别对激光直写技术和光刻技术进行了详细的分析和研究。ｆ激光直接写入技术是一种新型的二元光学器件的制作方法。论文研究了
- yychvhb 2016-04-06
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- 非光学光刻技术幻灯片.ppt
- 1通过使用大数值孔径的扫描步进光刻机和深紫外光源，再结合相移掩模、光学邻近效应修正和双层胶等技术，光学光刻的分辨率已进入亚波长，获得了0.1m的分辨率。若能开发出适合157nm光源的光学材料，甚至可扩
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- 非光学光刻技术ppt课件.ppt
- 1通过使用大数值孔径的扫描步进光刻机和深紫外光源，再结合相移掩模、光学邻近效应修正和双层胶等技术，光学光刻的分辨率已进入亚波长，获得了0.1m的分辨率。若能开发出适合157nm光源的光学材料，甚至可扩
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- 海日数据2021-04-16 00:17非光学光刻技术ppt课件
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- 纳米压印光刻技术原理与实验研究.pdf
- 华中科技大学硕士学位论文摘要本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究，目的在于研究采用纳米压印光刻技术制备三维微结构的工艺，以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用。本文首先介绍了纳米压印
- 2275182902 2011-09-25
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- 光刻技术及发展前景讲解.ppt
- Photolithography为什么要“重点”研究光刻？ 半导体工艺的不断进步由光刻工艺决定 为什么要“重点”研究光刻？ 业界之前所预测的光刻技术发展路线图 光刻概述 Photolithograph
- cqwwtqr3 2012-07-02
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- 微电子工艺--光刻技术.ppt
- 55光刻 曝光 刻蚀 光源 曝光方式 光刻概述 光刻概述 评价光刻工艺可用三项主要的标准：分辨率、对准精度和生产效率。 1.利用旋转涂敷法在硅片表面上涂一层光刻胶; 2.利用光通过掩膜版对光刻胶选进行
- cqwwtqr3 2012-07-02
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- 光刻技术.ppt
- 1光刻技术总概2光刻技术的发展3一般的光刻工艺工序4展望1光刻技术是指集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技
- qingmingchen_hust 2012-04-04
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- 光刻技术研究.docx
- 目录摘要 3.1掩模版 3.2光刻胶 3.2.1光刻胶的作用 3.2.2光刻胶的主要技术参数 3.2.3光刻胶的分类 3.3光刻机 4.1简介 4.2光刻蚀工艺概况 105.集成电路所采用的光刻技术
- jjduenfkd6 2015-12-21
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- 光刻技术论文.doc
- 光刻技术的现况及发展电子0901 学号09401140133摘要:光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去工艺，在此之后，晶圆表面会留下有微图形结构的薄膜。被除
- 丶大大卷 2012-05-12
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- 光刻技术.ppt
- 机械工程学院宋新海 一，光刻技术简介 （1）光刻的原理概述 （3）光刻的一般流程二，光刻技术应用举例 去胶底模处理 底膜处理是光刻工艺的第一步，其主要目的是对底膜表面进行处理，以增强其与光刻胶之间的粘
- gdou2009062 2012-08-22
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