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半导体制造技术-第十三章 金属化
第十三章 金属化金属,第十三章,金属化,第13章,第十三,三章金属,撸第十三章
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  • 上传人: yunde113 2013-05-13 18:40
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半导体制造技术第十三章_金属化.ppt
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  • 上传人: purestaisn 2012-08-21 15:33
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半导体制造技术
这是台湾德霖技术学院的半导体制造技术课件,本章介绍了半导体工业简介。
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  • 上传人: 调皮女子 2009-02-15 01:21
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半导体制造技术
本文主要介绍了半导体制造工序之一的"刻蚀工艺",包括干法刻蚀和湿法刻蚀的原理,主要参数及反应设备,内容不多,但图片较多,形象生动,易于理解。
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  • 上传人: 克莱文
  • 2010-08-23 00:34
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1篇相似文档
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半导体制造技术
这是台湾德霖技术学院的半导体制造技术中的第二章,半导体材料特性。
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  • 上传人: yh521688
  • 2010-08-19 15:55
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半导体制造技术
晶圆匣装/卸口隔板维修区Class1,000晶圆匣图6.23静电晶圆平盘(UsedwithpermissionfromAppliedMaterials,Inc.)-DC偏压矽厚板(接地)+-++晶圆...
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  • 上传人: 无心爱 2010-01-05 06:19
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半导体制造技术
汲极工程 0.1 1 10 100 1000 10,000 1016 1011 1012 1013 1014 1015 1017 能量 (keV) (Used with ...轴方向所看到的矽晶格 (Used with permission from Edgard Torres Designs)图17.28 离子进入的角度及通道 (Used.....
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  • 上传人: 丹霓 2009-06-13 17:56
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半导体制造技术
DC二极溅镀机基板1)电场形成Ar离子2)高能Ar离子撞击金属靶3)金属原子从靶材移出阳极阴极氩原子电场金属靶电浆5)基板上沉积金属...
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  • 上传人: 融雪
  • 2010-02-07 11:48
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半导体制造技术
阻障氧化物p磊晶层p矽基板表10.1氧化层应用:原生氧化层目的:此氧化层含有杂质,一般是不佳的.有时用於记忆储存或薄膜保护....
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  • 上传人: 苛儿 2010-07-17 19:11
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半导体制造技术
使用化学物质以进行半导体制造之典型制程,例如: 使用湿式化学溶液与超高洁净水以清洗与制备晶圆表面. 掺杂活性原子以获得p型或n型矽. 沈积不同金属材料之导电层与导电层间之介电层. 成长薄氧化层以应用於MOS结构之闸...
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  • 上传人: → Version 2009-06-20 10:28
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