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半导体制造技术导论chapter8离子注入工艺ppt课件.ppt
1Chapter8离子注入2目的• 至少列出三种最常运用的掺杂物• 识别出至少三种掺杂区域• 描画离子注入的优点• 描画离子注入机的主要部分• 解释通道效应• 离子种类和离子能量的关系• 解释后注入退
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341
美国知名大学半导体制造技术讲义CH14.pdf
美国知名大学半导体制造技术讲义
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半导体制造技术(集成电路工艺)总复习.pdf
d1xcdeng@课程总体介绍课程总体介绍一、课程性质和任务： 一、课程性质和任务： “集成电路工艺原理”课程是电子科学与 “集成电路工艺原理”课程是电子科学与技术专业（集成电
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《半导体制造技术-韩郑生》第四章 薄膜生长技术.pdf
第四章薄膜生长技术4.1.1 蒸发概念与机理4.1.2 常用蒸发技术4.1.3 溅射概念与机理4.1.4 常用溅射技术4.1 物理淀积：蒸发和溅射主要内容薄膜制造物理淀积化学淀积CVD蒸发Evapor
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上海华虹宏力半导体制造有限公司基于半导体技术的传感器芯片制造平台的开发及产业化项目环境影响评价.pdf
上海环境热线说 上海市环境科学研究院受上海华虹宏力半导体制造有限公司委托开展基于半导体技术的传感器芯片制造平台的开发及产业化项目的环境影响评价。现根据国家及本市规定，在
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半导体制造技术_2/2.pdf
对于半导体制造技术从晶圆准备、次微米制程及封装测试方面皆做完整详尽的介绍。最深入浅出、浅显易懂的字词揭示出原文书之精湛内容。 不论是在学研究生或是实际在线工程师而言，皆是一本优良的技术课程教材。
第01章 半导体工业简介
第02章 半导体材料特性
第03章 组件技术
第04章 硅与晶圆准备
第05章 半导体制造之化学特性
第06章 半导体制造厂之污染控制
第07章 量测与缺陷
第08章 制程反应室之气体控制
第09章 IC制造概述
第10章 氧化
第11章 沈积
第12章 金属化
第13章 微影：气相涂底至软烤
第14章 微影：对准与曝光
第15章 微影：光阻显影与先进雕像
第16章 蚀刻
第17章 离子植入
第18章 化学机械平坦化
第19章 晶圆测试
第20章 装配与封装
附录A 化学品及其安全性
附录B 无尘室中的污染控制
附录C 单位
附录D 以氧化物厚度为函数的颜色
附录E 光阻化学品概论
附录F 蚀刻化学品[/align]
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半导体制造技术第四章课件.ppt
半导体制造技术第四章课件半导体制造技术第四章课件半导体制造技术第四章课件
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半导体器件资料-美国知名大学半导体制造技术讲义.pdf
半导体器件资料—美国知名大学半导体制造技术讲义
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半导体制造技术导论chapter_8离子注入工艺.ppt
半导体制造技术导论chapter_8离子注入工艺.ppt半导体制造技术导论chapter_8离子注入工艺.ppt半导体制造技术导论chapter_8离子注入工艺.ppt
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半导体制造技术(H.XPh.D)CH10(论文资料).pdf
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