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用软蚀技术制造聚合物结构.pdf
用软刻蚀技术制造聚合物微结构技术,结构,使用,软刻蚀,微制造,用软刻蚀,软刻蚀技术,聚合物,微结构,干法刻蚀
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用软蚀技术制造聚合物结构.pdf
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新型胶体蚀法制备纳周期结构材料.pdf
新型胶体刻蚀法制备微纳周期结构材料,氢氧化铁胶体的制备,制备氢氧化铁胶体,fe oh 3胶体的制备,胶体的制备,feoh3胶体制备,用下列方法制备胶体,胶体制备,如何制备氢氧化铁胶体,胶体金制备
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蚀在制备有机聚合物及无机材料图形结构中应用的论文.pdf
2.第二章主要是研究微模塑法和转移微模塑法制备以Ti02为代表的无机材料的微结(1).鉴于软刻蚀对模板的高标准要求,我们首先详细论述了硬质模板材料的选择及 微图形的加工过程,确定用光刻法在抛光硅片表面
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用软蚀方法制备高分子和无机材料的结构.pdf
中国科学技术大学博士学位论文摘要当前半导体工业的需求是更微细更高密度的加工,微米纳米加工技术的极限一再被突破,设备和加工工艺的费用也不断提高。为了降低费用并且适应器件制备的需要,人们对光刻以外的方法给
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稳定射流水波层激光直凹印制版关键技术的研究.pdf
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结合光和反应性相分离技术制备纳米图形的研究(理科).pdf
结合光刻和反应性相分离技术制备微纳米图形的研究(理科),纳米压印光刻机,国产45纳米光刻机,纳米压印光刻技术,纳米光刻技术,纳米光刻,国产28纳米光刻机,国产65纳米光刻机,纳米压印光刻,蘸笔纳米光刻技术
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约束刻蚀剂层技术(CELT)用于金属材料表面复杂三维微结构的加T研究摘要微机电系统(MEMS)和微光机电系统(MOEMS)是当今科学技术的热点研究领域之一。微机电系统,泛指体积微小、集微型机械、微型传
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化学蚀制备硅和氮化镓纳结构光学性能和应用研究.pdf
化学刻蚀制备硅和氮化镓微纳结构光学性能和应用研究研究,化学,制备,微纳结构和,氮化镓,光学性能,及光学性能,制备与应用,制备及,化学性质
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q值gan基腔发光器件的研究.pdf
高q值gan基微腔发光器件的研究

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