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电子科大微电子工艺(第五章)光刻工艺
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合肥工业大学微电子工艺课件(本科)第八章刻.pdf
豆丁精品文档: 合肥工业大学微电子工艺课件(本科)第八章 刻 蚀
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合肥工业大学微电子工艺课件(本科)第七-2.pdf
第七章 光刻工艺(2)主讲:张彦。E-mail: 。合肥工业大学电物学院微电子学教研室。
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主讲:张彦。E-mail: 。合肥工业大学电物学院微电子教研室。
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第八章干刻工艺 8.1 Dry Etch 工序的目的 广义而言,所谓的刻蚀技术,是将显影后所产生的光阻图案忠实地转印到光阻下的材质上,形成由光刻技术定义的图形。它包含了将材质整面均匀移除及图案选择性部
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PrenticeHall Semiconductor Manufacturing Technologyby Michael Quirk JulianSerdaSemiconductor Manufac
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光刻是一种种象种印的技种,是集成种路制程中一种种种的工种技种。在整工种流程中,光 个刻的步种占到50 %以上,其成本占种制造成本的1/3 以上。Photolithography光刻步种占整工种流程 个
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【材料课件】第三 微细加工中的.ppt
【材料课件】第三章 微细加工中的刻蚀
——【大学课件,精品文档】

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