化学机械研磨(CMP)中影响研磨效果的参数相当多

本文档由 runqin 分享于2009-03-08 08:53

,而研磨垫的孔洞结构在化学机械研磨中扮演甚麼角色,由於问题十分复杂,相关论文亦只探讨研磨垫变形对研磨效果的研究,至今很少人涉猎孔洞结构的研究¸事实上研磨垫孔洞结构在化学机械研磨中对晶圆磨除率以及均匀度具有相当的重要性,因此本¸¸¸
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CMP 化学 孔洞 移除 参数 土壤 研磨 效果 研究 描述
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研磨 化学机械研磨 cmp 孔洞 除率 效果
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