RTA设备结构和原理

快速热处理(Rapid Thermal Processing)。?。RTA :Rapid Thermal Annealing 快速热退火 RTO :Rapid Thermal Oxidation快速热氧化主要 用于生长薄绝缘层 ; RTCVD :Rapid Thermal CVD 主要用于 amorphous silicon，polysilicon tungsten，silicon dioxide，以及 silicon nitride RTN：Rapid Thermal Nitridation 快速热氮化。RTP定义。RTP主要是利用热能,将物体內产生內应力 的一些缺陷加以消除,为了使RTP的升温速度快 且均勻,RTP反应室的周围均为加热器所包围, 然后藉着加热器所释放的輻射,来进行RTP反应 室的加热.当热处理时,..