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CMP Process Introduction

1,224阅读 3顶 62人收藏 83页泰戈尔上传 举报/认领 展开

本文档由 泰戈尔 分享于2011-10-25 08:03

这是来自国内某半导体生产线的培训教程，使关于化学机械抛光的介绍！
文档格式：
.ppt
文档大小：
5.37M
文档页数：
83页
顶 /踩数：
3 /  0
收藏人数：
62
评论次数：
4
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文档分类：
通信/电子  —  无线电电子学/电信技术
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文档标签：
抛光
系统标签：
cmp platen mirra introduction msdw polishing
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