化学机械研磨废水相关处
本文档由 万古 分享于2009-05-09 17:08
浊 ,DOC的去除 及减缓质传系 下 . 涂桂薇/ 2001/ 温绍炳/ 成功大学 半导体化学机械研磨(CMP)废液之资源化处 研究/ 使用三种混凝剂(Fe2(SO4)3,CuSO4及Al2(SO4)3)处 CMP废 水,将废水pH值控制在适当范围...
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